对準精度

图1是主流光刻机ASML中对準系统示意图，对準系统使用He-Ne雷射，雷射束经镜子反射后，照射在晶圆表面。对準系统的主要功能就是将工件台上硅片的标记与掩膜版上的标记对準，并具有一定精度，因为一片硅片在一个工艺流程中的曝光次数可能达到几十次次，而对準精度直接影响硅片的套刻精度，所以硅片的对準精度非常的关键。

光刻对準在光刻机系统中占据着十分重要的地位，其对準精度和对準速度决定了产品的质量和生产率。一般要求对準精度为最细线宽的1/5到1/3左右。随着光刻机技术水平的提高，线宽的特徵尺寸减小到纳米级时，对光刻机对準系统提出了更高对準精度的性能指标。